Le attività comprendono tutte le principali fasi di processo: dalla fotolitografia ai trattamenti termici, dai processi di deposizione all’incisione, fino all’impiantazione ionica e all’integrazione finale dei dispositivi.
Le infrastrutture di micro e nanofabbricazione dell’IMM consentono la gestione dell’intera catena di lavorazione dei wafer, integrando processi avanzati per la realizzazione di dispositivi micro e nanoelettronici, sensori, microsistemi e componenti fotonici. Le attività comprendono tutte le principali fasi di processo: dalla fotolitografia ai trattamenti termici, dai processi di deposizione all’incisione, fino all’impiantazione ionica e all’integrazione finale dei dispositivi. L’integrazione tra processi, clean room e attività di caratterizzazione consente di seguire l’intero ciclo di sviluppo: progettazione, fabbricazione, testing e validazione dei dispositivi.
Le tecnologie di litografia permettono la definizione di pattern e architetture su scala micro e nanometrica attraverso:
Questi processi consentono la realizzazione controllata di strutture ad alta precisione su wafer di silicio e altri materiali.
Le infrastrutture IMM supportano diversi processi per la crescita e deposizione di film sottili e materiali funzionali:
Le tecnologie di deposizione sono utilizzate per la realizzazione di strati funzionali, interfacce e architetture multilayer.
La definizione delle strutture è completata attraverso processi di incisione e microfabbricazione:
Queste tecniche permettono la realizzazione di geometrie complesse e strutture tridimensionali su scala micro e nanometrica