Processi e servizi per la lavorazione dei wafer

Le attività comprendono tutte le principali fasi di processo: dalla fotolitografia ai trattamenti termici, dai processi di deposizione all’incisione, fino all’impiantazione ionica e all’integrazione finale dei dispositivi.

Fabbricazione micro-nano

Le infrastrutture di micro e nanofabbricazione dell’IMM consentono la gestione dell’intera catena di lavorazione dei wafer, integrando processi avanzati per la realizzazione di dispositivi micro e nanoelettronici, sensori, microsistemi e componenti fotonici. Le attività comprendono tutte le principali fasi di processo: dalla fotolitografia ai trattamenti termici, dai processi di deposizione all’incisione, fino all’impiantazione ionica e all’integrazione finale dei dispositivi. L’integrazione tra processi, clean room e attività di caratterizzazione consente di seguire l’intero ciclo di sviluppo: progettazione, fabbricazione, testing e validazione dei dispositivi.

Fotolitografia e definizione delle strutture

Le tecnologie di litografia permettono la definizione di pattern e architetture su scala micro e nanometrica attraverso:

  • fotolitografia UV e deep-UV;
  • electron beam lithography (e-beam);
  • laser lithography;
  • tecniche avanzate di nanolitografia.

 

Questi processi consentono la realizzazione controllata di strutture ad alta precisione su wafer di silicio e altri materiali.

Deposizione e crescita dei materiali

Le infrastrutture IMM supportano diversi processi per la crescita e deposizione di film sottili e materiali funzionali:

  • Chemical Vapor Deposition (CVD);
  • Physical Vapor Deposition (PVD);
  • Atomic Layer Deposition (ALD);
  • sputtering ed evaporazione;
  • processi epitassiali e deposizioni avanzate.

Le tecnologie di deposizione sono utilizzate per la realizzazione di strati funzionali, interfacce e architetture multilayer.

 

La definizione delle strutture è completata attraverso processi di incisione e microfabbricazione:

  • wet etching;
  • dry etching e plasma etching;
  • Reactive Ion Etching (RIE);
  • Deep Reactive Ion Etching (DRIE);
  • processi di micromachining e microstrutturazione.

Queste tecniche permettono la realizzazione di geometrie complesse e strutture tridimensionali su scala micro e nanometrica