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Structural and electrical correlation in aluminum nitride thin films grown by plasma enhanced atomic layer deposition as interface insulating layers on silicon carbide (4H-SiC)
Publication date: 10 Ott 2023
Journal
Source: OPENALEX
OpenAlex type: article
Closed Access
Authors:
Bruno Galizia,
Patrick Fiorenza
,
Corrado Bongiorno
, B. Pécz, Zsolt Fogarassy,
Emanuela Schilirò
,
Filippo Giannazzo
,
Fabrizio Roccaforte
,
Raffaella Lo Nigro
Origin
Microelectronic Engineering
Volume
283
Pages
112103
Cited by
7
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